内容紹介
ICP-AES、ICP-MSの理論から実際の使用に際しての留意点まで網羅！
本書は、(社)日本分析化学会関東支部が行っている機器分析講習会のテキストをベースとし、ICP発光分析法（ICP-AES）およびICP質量分析法（ICP-MS）の理論、また、装置のハードウェア、装置環境、運転環境などの基礎的な事項を解説するとともに、金属材料、半導体、廃棄物の各種試料の分析を行ううえでのポイントや実際の装置の扱い方を実務者向けに解説していくものである。
わかりやすい解説を心がけるとともに、適宜Q＆A方式で失敗談から学ぶようなイメージで疑問等に答える構成とし、より読みやすい内容となっている。
このような方におすすめ
○ICP-AES、ICP-MSを用いて分析を行ってる企業の方で実務レベルを向上させたいと考えている方
○分析機器メーカーの営業担当、若手の初級技術者
○農学、化学系の大学2～3回生、分析化学を専攻する学生
目次
主要目次
1章 ICP発光分析法、ICP質量分析法の測定原理と最近の動向
2章 金属材料の分析
3章 半導体・セラミックスの分析
4章 高純度試薬の分析
5章 河川水・底質の分析
6章 食品の分析
7章 廃棄物の分析
詳細目次
1章 ICP発光分析法、ICP質量分析法の測定原理と最近の動向
1-1 はじめに
1-2 装置の測定原理
1-3 装置構成部ごとの進化動向
1-4 おわりに
2章 金属材料の分析
2-1 はじめに
2-2 金属試料の性状
2-3 金属試料のサンプリングと保管
2-4 金属試料の秤量
2-5 金属試料の前処理
2-6 標準液の調整
2-7 ICP-OES、ICP-MSを用いた測定
2-8 測定データの整理と分析値の提示
3章 半導体・セラミックスの分析
3-1 半導体関連分析の概要
3-2 超微量分析へのアプローチ
3-3 半導体関連の超微量分析
3-4 半導体試料の前処理
3-5 標準液の調整
3-6 ICP-AES、ICP-MSを用いた測定
3-7 測定データの整理と分析値の提示
4章 高純度試薬の分析
4-1 試料の性状
4-2 試料のサンプリングと保管
4-3 試料の秤量
4-4 試料の前処理
4-5 標準溶液の調整
4-6 ICP-AES、ICP-MSを用いた測定
5章 河川水・底質の分析
5-1 はじめに
5-2 河川水・底質試料の性状
5-3 試料サンプリングと保管
5-4 サンプリング・前処理過程における汚染対策
5-5 試料の前処理
5-6 標準溶液の調整
5-7 ICP-AES、ICP-MSを用いた測定
5-8 分析値の評価
5-9 おわりに
6章 食品の分析
6-1 食品試料の性状
6-2 食品試料のサンプリングと保管
6-3 食品試料の秤量
6-4 食品試料の前処理
6-5 標準溶液の調整
6-6 ICP-AES、ICP-MSを用いた測定
6-7 測定データの整理と分析値の提示
7章 廃棄物の分析
7-1 廃棄物試料の性状
7-2 廃棄物試料のサンプリングと保管
7-3 廃棄物試料の秤量
7-4 廃棄物試料の前処理
7-5 標準溶液の調整
7-6 ICP-AES、ICP-MSを用いた測定
7-7 測定データの整理と分析値の提示
続きを見る